依据台湾媒体《自在财经》在昨日的报导，在AI范畴需求激增，导致先进制程与封装产能严重的情况下，台积电方案自2025年1月开端，对其3nm、5nm以及CoWoS工艺的价格进行上调。

  详细来看，3nm和5nm工艺的价格上调起伏估计在5%到10%之间，而关于供给最为严重的CoWoS工艺，其价格涨幅则估计会更高，到达15%至20%。这一调整反映了当时高端芯片制作技能的需求热度和相关产能的稀缺性。

  【国林科技】作为臭氧发生器的领军企业（触及清洗、薄膜堆积等范畴），在半导体设备方面取得了明显发展，估计其市值有望翻倍。

  （1）公司的半导体臭氧设备适用于半导体清洗流程，推进产业链国产化进程。尤其是在半导体制作的多个环节中，臭氧技能被大范围的使用。例如，在光刻过程中，VOS工艺（高浓度臭氧气体与气化水的结合）能够代替传统的SPM（过氧化氢混合物）清洗办法。

  （2）国林科技现已霸占了半导体臭氧设备的核心技能难题，产品功能可与职业领导者MKS相媲美。现在，公司产品已提交给北方华创、拓荆科技、京东方等下流首要客户来测验，估计到2024年5月底完结出产线验证后，即可敏捷投入大规划出产。

  （3）据预算，前道清洗商场的潜在规划至少为18亿元，而薄膜堆积商场的潜力约为20亿元。假如考虑国产化率到达10%，那么国林科技在半导体设备方面的订单赢利将至少到达8500万元，依照25倍市盈率核算，市值大约能到达20亿元左右。鉴于未来两年内该范畴难有竞争对手呈现，中期方针是到达其在臭氧发生器主营业务30%的商场占有率，这一方针好像并不悠远。老规矩，觉得不错的朋友，莱工-重-呺：子龙说市事，别搞错了，记住保存保藏，新来的同伴点点重视！

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